-
Επισημαίνω
Χημικά για την επικάλυψη τσιμέντου χωρίς φορμαλδεΰδη
,Σύντομη αποσύνθεση
,Σταθερή διαδικασία ηλεκτρονικής χημικής επικάλυψης
-
ΤύποςΦωτεινός όξινος κασσίτερος
-
χρήσηΕπένδυση κασσίτερου
-
ΕίδοςΒοηθητικός χημικός παράγοντας
-
χαρακτηριστικόΓρήγορη απόθεση, σταθερή διαδικασία
-
Τόπος καταγωγήςΚίνα
-
ΜάρκαFENGFAN
-
Αριθμό μοντέλουΓΦ-7702
FF-7702 Ηλεκτρονική χημική επικάλυψη
FF-7702 Επεξεργασία επικάλυψης από κασσίτερο με φωτεινό οξύ
Η διαδικασία επικάλυψης φωτεινού κασσίτερου FF-7702 είναι ένα διάλυμα επικάλυψης κασσίτερου που δεν περιέχει φορμαλδεΰδη και έχει χαμηλή αφρόσφαιρα που παράγει ένα φωτεινό ασημένιο λευκό εύκαμπτο στρώμα επικάλυψης κασσίτερου.Αυτή η διαδικασία είναι κατάλληλη τόσο για εφαρμογές βαρέλια και ράφους επικάλυψης.
Χαρακτηριστικά και εφαρμογές
- Τα αντιοξειδωτικά ειδικής δράσης παρατείνουν τη διάρκεια ζωής του μπάνιου
- Μη φορμαλδεΰδης, με χαμηλή αφρόκρεμα, διαδικασία επικάλυψης από κασσίτερο
- Εξαιρετική συγκόλληση και ομοιόμορφη επικάλυψη για ηλεκτρονικές εφαρμογές
- Σταθερή απόδοση της επικάλυψης
- Μη διαβρωτικά για μονωτικά, συμπεριλαμβανομένης της κεραμικής και του μολύβδιου γυαλιού
Συνθήκες λειτουργίας
| Άρθρο | Πεδίο | Βέλτιστο |
|---|---|---|
| Σούλφατοστάννου | 20-40 g/l | 30 g/l |
| Θειικό οξύ (H2SO4) | 150-170 g/l | 160 g/l |
| FF-7702Α | 20-40 ml/l | 30 ml/l |
| FF-7702B | 00,5-3 ml/l | 2 ml/l |
| Θερμοκρασία | 5-20°C | 15-20°C |
| πυκνότητα ρεύματος της κάθοδος (επεξεργασία ράκα) | 1.0-3.0 A/dm2 | 2.0 A/dm2 |
| Πληθώρα ρεύματος από την κάθοδα (επεξεργασία βαρέλι) | 0.3-1.0 A/dm2 | 0.5 A/dm2 |
| Πυκνότητα ρεύματος ανόδου | 0.5-2.0 A/dm2 | 1.0 A/dm2 |
| Ανακίνηση (καθοδική ταλάντευση) | 3-4 m/min | 3-4 m/min |
| Φίλτρο | Συνεχή | Συνεχή |
| Ταχύτητα επένδυσης | - | 1 μm/min (2 A/dm2) |
Προετοιμασία του διαλύματος
- Καθαρίστε την δεξαμενή επικάλυψης, τη αντλία φίλτρου, την άνοδο και τις σακούλες άνοδου με 10% (v/v) θειικό οξύ και στη συνέχεια πλύνετε προσεκτικά με νερό
- Προστίθεται το 50% του απαιτούμενου όγκου αποιονισμένου ή αποσταγμένου νερού στην δεξαμενή,στη συνέχεια προσθέστε την απαιτούμενη ποσότητα θειικού οξέος ενώ ανακατεύετε (να λαμβάνονται τα κατάλληλα μέτρα προστασίας κατά την προσθήκη θειικού οξέος)
- Τοποθετείτε αρκετές ράβδους κασσίτερου στο διάλυμα, προσθέστε την απαιτούμενη ποσότητα θειικού στεφανίου ενώ ανακατεύετε και θερμάνετε το διάλυμα σε θερμοκρασία όχι μεγαλύτερη από 50 °C μέχρι να διαλυθεί πλήρως
- Προσθέστε αποιονισμένο ή αποσταγμένο νερό για να φτάσετε στον τελικό όγκο
- Μετά την ψύξη του διαλύματος επικάλυψης σε θερμοκρασία δωματίου, προσθέστε FF-7702A και B ενώ ανακατεύετε
- Για βέλτιστες επιδόσεις, εκτελείται ηλεκτρόλυση μικρού ρεύματος 2-3 Ah/L
Σχετικά προϊόντα
Τα προϊόντα μας πωλούνται σε όλο τον κόσμο. Μπορείτε να είστε σίγουροι για ολόκληρη τη διαδικασία των προϊόντων μας.
